霍尼韦尔日前宣布其电子材料业务部门将扩展在亚太地区的制造能力，以生产300 mm PVD ( 物理气相沉积)溅镀靶。霍尼韦尔位于韩国镇川的工厂将为这一重要地区的客户就地提供用于半导体生产的领先技术材料。

霍尼韦尔韩国工厂现有产能包括为支持200 mm ( 指用于生产多个集成电路或芯片的硅晶片的直径)半导体制造而进行的材料生产。

霍尼韦尔新的面向亚太地区的300 mm PVD 靶材制造能力将于今年下半年变成现实，这是该公司亚太地区整体业务的一部分，在该地区生产的芯片则越来越多地向全球各地出口。霍尼韦尔位于华盛顿州 Spokane 的工厂同样生产300 mm PVD靶材。